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雙驅(qū)動(dòng)納米砂磨機(jī)

1.突出特點(diǎn)· 新型分離器,特殊的螺旋線設(shè)計(jì)(**產(chǎn)品);· 使用0.05mm-1.0mm 研磨介質(zhì);· 流量恒定、大流量出料、無(wú)堵塞、無(wú)漏珠。
2.應(yīng)用領(lǐng)域
1) Color paste / Color filter / TFT LCD :R、G、B、Y 及BM 已成功地分散研磨到納米級(jí),透明度需超過90%,粘度控制在 5-15 CPS,含水率在1%以下。
2) Ink-jet Inks:顏料型Ink-jet Inks 已成功地分散研磨到納米級(jí),粘度控制在5 CPS 以下。
3) CMP (chemical mechanical polish) slurry:半導(dǎo)體晶片研磨所需之研磨液粒徑已達(dá)納米級(jí)且能滿足無(wú)金屬離子析出要求。
4) TiOPc (optical contact):應(yīng)用于雷射列表機(jī)光鼓上所涂布光導(dǎo)體,已研磨分散到納米級(jí)。
5) 納米級(jí)粉體研磨,如TiO2、ZrO2、Al2O3、ZnO、Clay、CaCO3、…,可分散研磨到30nm。
6) 納米級(jí)粉體分散。如將納米粉體分散到高分子,或?qū)⒓{米級(jí)粉體添加到塑膠﹑橡膠等進(jìn)行分散。
7) 醫(yī)藥達(dá)到納米級(jí)要求,且需能滿足FDA 要求。
8) 食品添加劑達(dá)到納米級(jí)之要求。如β胡蘿卜素…,需滿足GMP 要求。
9) 電子化學(xué)品達(dá)到納米級(jí)需求,且需能滿足無(wú)金屬離子析出問題。10)其他特種軍工,航空納米材料。

 

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